J 2005

Spectroscopic ellipsometry of sinusoidal surface-relief gratings

ANTOŠ, Roman; Ivan OHLÍDAL; Daniel FRANTA; Petr KLAPETEK; Jan MISTÍK et al.

Základní údaje

Originální název

Spectroscopic ellipsometry of sinusoidal surface-relief gratings

Název česky

Spektroskopická elipsometrie sinusoidálních reliéfních mřížek

Autoři

ANTOŠ, Roman; Ivan OHLÍDAL; Daniel FRANTA; Petr KLAPETEK; Jan MISTÍK; Tomuo YAMAGUCHI a Štefan VIŠŇOVSKÝ

Vydání

Applied Surface Science, USA, ELSEVIER (NORTH-HOLLAND), 2005, 0169-4332

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 1.263

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00013177

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

Optical metrology; Spekroscopic ellipsometry; Sinusoidal gratings; Wood anomaly; RCWA; Incoherent light
Změněno: 3. 2. 2006 17:49, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.

Anotace

V originále

Spectroscopic ellipsometry (SE) is used to study a sinusoidal-relief grating fabricated on a surface of transparent polymer. An optically thick polymer layer is situated on a glass substrate and its refraction index is optically matched to the index of the glass. The rigorous coupled-wave analysis, implemented as the airy-like internal reflection series, is applied to calculate the optical response of the relief grating. The entire optical response of the sample is determined by employing incoherent backreflections at the interface between the polymer and the glass. The parameters describing the dimensions and the real shape of the sine-like relief, as well as the quality of the optical matching between the polymer and the glass, are determined using SE together with atomic force microscopy as a complementary technique.

Česky

Spektroskopická elipsometrie (SE) je použita pro studium mřížek se sinusovým reliefem, které byly připraveny na povrchu transparentního polymeru. Opticky tlustá polymerní vrstva je umístěna na skleněnou podložku a její index lomu je opticky přizpůsoben s indexem lomu skla. Rigorosní analýza vázaných vln implementovaná jako airyho podobná řada vnitřních odrazů je aplikována pro výpočet optické odezvy reliefní mřížky. Celková optická odezva vzorku je určena s využitím zpětných odrazů na rozhraní mezi polymerem a sklem. Parametry popisující rozměry a skutečný tvar sinusového reliefu stejně tak jako kvalitu optického přizpůsobení mezi polymerem a sklem jsou určeny s využitím spektroskopické elipsometrie a mikroskopie atomové síly jako komplementární techniky.

Návaznosti

GA202/03/0776, projekt VaV
Název: Magnetooptické jevy v magnetických nanostrukturách
ME 574, projekt VaV
Název: Výzkum nových materiálů pro informatiku: zvyšování hustoty magnetického záznamu