JAŠEK, Ondřej, Marek ELIÁŠ, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Zuzana KUČEROVÁ, Vít KUDRLE, Jiřina MATĚJKOVÁ, Antonín REK a Jiří BURŠÍK. Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition. In Proceedings Electronic devices and systems 2006 IMAPS CS International Conference. 1. vyd. Brno: Vysoké učenní technické v Brně, 2006, s. 21-26. ISBN 80-214-3246-2.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition
Název česky Depozice uhlíkových nanotrubek metodou depozice z plynné fáze s asistencí plazmatu
Autoři JAŠEK, Ondřej (203 Česká republika, garant), Marek ELIÁŠ (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Zuzana KUČEROVÁ (203 Česká republika), Vít KUDRLE (203 Česká republika), Jiřina MATĚJKOVÁ (203 Česká republika), Antonín REK (203 Česká republika) a Jiří BURŠÍK (203 Česká republika).
Vydání 1. vyd. Brno, Proceedings Electronic devices and systems 2006 IMAPS CS International Conference, od s. 21-26, 6 s. 2006.
Nakladatel Vysoké učenní technické v Brně
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/06:00015901
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 80-214-3246-2
Klíčová slova anglicky carbon nanotubes; plasma enhanced chemical vapor depostion; catalyst; electron microscopy
Štítky carbon nanotubes, CATALYST, electron microscopy
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: prof. Mgr. Vít Kudrle, Ph.D., učo 2560. Změněno: 6. 6. 2008 12:23.
Anotace
Carbon nanotube properties provoked interest in many fields of application but there is still need to develop deposition techniques, which enable precise control of nanotubes positioning, alignment and properties. Chemical vapor deposition (CVD) methods and lately also plasma enhanced CVD (PECVD) are most promising to reach this goal. In the first part of the article we will briefly describe carbon nanotubes structure and properties and review the necessary conditions and possible control mechanisms used in PECVD deposition method. In the second part, examples of two deposition techniques, one working at a low pressure and one at an atmospheric pressure, will be described and reached results analyzed.
Anotace česky
Uhlíkové nanotrubky se díky svým vlastnostem dostaly do popředí zájmu v mnoha aplikačních oblastech. Pro mnohé aplikace je však stále potřeba vyvinout metody depozice umožňující co nejpřesnější kontrolu vlastností deponovaných nanotrubek a také jejich uspořádání popřípadě přesné umisťování. Metody depozice s plynné fáze (CVD) popřípadě také v plazmatu (PECVD) se jeví jako velmi slibné pro dosažení těchto cílů. V úvodní části stručně shrneme vlastnosti a popis struktury uhlíkových nanotrubek a uvedeme základní podmínky a postupy při depozici uhlíkových nanotrubek metodou PECVD. V druhé části se pak budeme stručně věnovat depozici uhlíkových nanotrubek ve dvou experimentech s odlišnými depozičními podmínkami(depozice za nízkého tlaku a depozice za atmosférického tlaku).
Návaznosti
GA202/05/0607, projekt VaVNázev: Příprava uhlíkových mikro- a nanostruktur plazmovými technologiemi
Investor: Grantová agentura ČR, Příprava uhlíkových mikro- a nanostruktur plazmovými technologiemi
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 29. 8. 2024 16:07