Interface roughness in SiGe quantum-cascade structures from x-ray reflectivity studies

ROCH, Tomáš, Mojmír MEDUŇA, Julian STANGL, Anke HESSE, Rainer T LECHNER, Guenther BAUER, G. DEHLINGER, L. DIEHL, U. GENNSER, Elisabeth MÜLLER a Detlev GRÜTZMACHER. Interface roughness in SiGe quantum-cascade structures from x-ray reflectivity studies. Journal of Applied Physics. USA: American Institute of Physics, 2001, roč. 91, č. 11, s. 8974-8978. ISSN 0021-8979.

Základní údaje

Originální název

Interface roughness in SiGe quantum-cascade structures from x-ray reflectivity studies

Název česky

Drsnost rozhraní v SiGe kvantumkaskádových strukturách ze studií rtg reflektivity

Autoři

ROCH, Tomáš (703 Slovensko), Mojmír MEDUŇA (203 Česká republika, garant), Julian STANGL (40 Rakousko), Anke HESSE (276 Německo), Rainer T LECHNER (40 Rakousko), Guenther BAUER (40 Rakousko), G. DEHLINGER (756 Švýcarsko), L. DIEHL (756 Švýcarsko), U. GENNSER (756 Švýcarsko), Elisabeth MÜLLER (756 Švýcarsko) a Detlev GRÜTZMACHER (276 Německo)

Vydání

Journal of Applied Physics, USA, American Institute of Physics, 2001, 0021-8979

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 2.128

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000175708900007

Klíčová slova anglicky

superlatitces; multilayers; scattering; quality

Štítky

multilayers, Quality, SCATTERING, superlatitces

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

---

Anotace

V originále

We have investigated the structural properties of Si/SiGe electroluiminescent quantum-cascade structures, by means of x-ray reflectivity and diffraction.

Česky

Studovali jsme strukturní vlastnosti Si/SiGe elektroluminescentních kvantových kaskádových struktur pomocí rtg reflektivity a difrakce.