2001
Interface roughness in SiGe quantum-cascade structures from x-ray reflectivity studies
ROCH, Tomáš; Mojmír MEDUŇA; Julian STANGL; Anke HESSE; Rainer T LECHNER et. al.Základní údaje
Originální název
Interface roughness in SiGe quantum-cascade structures from x-ray reflectivity studies
Název česky
Drsnost rozhraní v SiGe kvantumkaskádových strukturách ze studií rtg reflektivity
Autoři
ROCH, Tomáš; Mojmír MEDUŇA; Julian STANGL; Anke HESSE; Rainer T LECHNER; Guenther BAUER; G. DEHLINGER; L. DIEHL; U. GENNSER; Elisabeth MÜLLER a Detlev GRÜTZMACHER
Vydání
Journal of Applied Physics, USA, American Institute of Physics, 2001, 0021-8979
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 2.128
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000175708900007
Klíčová slova anglicky
superlatitces; multilayers; scattering; quality
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 31. 1. 2008 15:30, Mgr. Mojmír Meduňa, Ph.D.
V originále
We have investigated the structural properties of Si/SiGe electroluiminescent quantum-cascade structures, by means of x-ray reflectivity and diffraction.
Česky
Studovali jsme strukturní vlastnosti Si/SiGe elektroluminescentních kvantových kaskádových struktur pomocí rtg reflektivity a difrakce.