Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films
deposited in pulsed radiofrequency discharge

J 2008

Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge

VALTR, Miroslav, Petr KLAPETEK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Ivan OHLÍDAL, Daniel FRANTA et. al.

Základní údaje

Originální název

Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge

Název česky

Morfologie povrchu amorfních uhlíkových vrstev s příměsí vodíku deponované v pulzním radiofrekvenčním výboji

Autoři

VALTR, Miroslav (203 Česká republika, garant), Petr KLAPETEK (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika) a Daniel FRANTA (203 Česká republika)

Vydání

Chem. listy, Praha, Česká společnost chemická, 2008, 0009-2770

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Impakt faktor

Impact factor: 0.593

Kód RIV

RIV/00216224:14310/08:00024346

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000208452600051

Klíčová slova anglicky

plasma enhanced chemical vapor deposition;pulsed discharge;atomic force microscopy

Štítky

atomic force microscopy, pulsed discharge

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

Změněno: 8. 12. 2008 13:51, Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D.

Anotace

V originále

We studied in this work surface morphology of thin amorphous hydrocarbon films by means of atomic force microscope. The AFM data were collected in two regions on the sample. We observed a significant difference in roughness parameters between these regions with increasing total deposition time. RMS values of the heights near the edge of the sample did not exhibit any significant change with the total deposition time and in the mean are equal to approximately 7 nm. However, RMS values of the heights in the center of the sample increased linearly with the total deposition time and reached values up to 125.6 nm. The values of autocorrelation length were independent on total deposition time, but there was a difference in absolute values. The mean value of this parameter near the edge of the sample was 145 nm, while in the center of the sample the respective value was 359 nm. The suggested reason for this surface non-uniformity is the reactor design.

Návaznosti

KAN311610701, projekt VaV

Název: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie

Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie

MSM0021622411, záměr

Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Citovat

VALTR, Miroslav, Petr KLAPETEK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Ivan OHLÍDAL a Daniel FRANTA. Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge. Chem. listy. Praha: Česká společnost chemická, 2008, roč. 102, č. 16, s. 1529-1532. ISSN 0009-2770.

@article{798200,
   author = {Valtr, Miroslav and Klapetek, Petr and Buršíková, Vilma and Ohlídal, Ivan and Franta, Daniel},
   article_location = {Praha},
   article_number = {16},
   keywords = {plasma enhanced chemical vapor deposition;pulsed discharge;atomic force microscopy},
   language = {eng},
   issn = {0009-2770},
   journal = {Chem. listy},
   title = {Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge},
   url = {http://www.chemicke-listy.cz/docs/full/2008_16_s1529-s1532.pdf},
   volume = {102},
   year = {2008}
}

TY  - JOUR
ID  - 798200
AU  - Valtr, Miroslav - Klapetek, Petr - Buršíková, Vilma - Ohlídal, Ivan - Franta, Daniel
PY  - 2008
TI  - Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge
JF  - Chem. listy
VL  - 102
IS  - 16
SP  - 1529-1532
EP  - 1529-1532
PB  - Česká společnost chemická
SN  - 00092770
KW  - plasma enhanced chemical vapor deposition;pulsed discharge;atomic force microscopy
UR  - http://www.chemicke-listy.cz/docs/full/2008_16_s1529-s1532.pdf
N2  - We studied in this work surface morphology of thin amorphous hydrocarbon films by means of atomic force microscope. The AFM data were collected in two regions on the sample. We observed a significant difference in roughness parameters between these regions with increasing total deposition time. RMS values of the heights near the edge of the sample did not exhibit any significant change with the total deposition time and in the mean are equal to approximately 7 nm. However, RMS values of the heights in the center of the sample increased linearly with the total deposition time and reached values up to 125.6 nm. The values of autocorrelation length were independent on total deposition time, but there was a difference in absolute values. The mean value of this parameter near the edge of the sample was 145 nm, while in the center of the sample the respective value was 359 nm. The suggested reason for this surface non-uniformity is the reactor design.
ER  -

VALTR, Miroslav, Petr KLAPETEK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Ivan OHLÍDAL a Daniel FRANTA. Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge. \textit{Chem. listy}. Praha: Česká společnost chemická, 2008, roč.~102, č.~16, s.~1529-1532. ISSN~0009-2770.

Podrobný výpis o publikaci