Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science,
Technology, and Applications

Přeskočit na horní lištu Přeskočit na hlavičku Přeskočit na obsah Přeskočit na patičku

Publikace Přehled o publikaci

Přehled o publikaci

B 1993

Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology, and Applications

KERN, Werner

Základní údaje

Originální název

Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology, and Applications

Autoři

KERN, Werner

Vydání

New Jersey, U.S.A. 623 s. Materials Science and Process Technology Series, 1993

Nakladatel

Noyes Publications

Další údaje

Typ výsledku

Odborná kniha

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

ISBN

978-0815513315

Klíčová slova anglicky

surface; cleaning

Změněno: 5. 1. 2009 14:13, RNDr. Petr Pánek, Ph.D.

KERN, Werner. Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology, and Applications. New Jersey, U.S.A.: Noyes Publications, 1993, 623 s. Materials Science and Process Technology Series. ISBN 978-0815513315.

@book{806484,
   author = {Kern, Werner},
   address = {New Jersey, U.S.A.},
   keywords = {surface; cleaning},
   location = {New Jersey, U.S.A.},
   isbn = {978-0815513315},
   publisher = {Noyes Publications},
   title = {Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology, and Applications},
   year = {1993}
}

TY  - BOOK
ID  - 806484
AU  - Kern, Werner
PY  - 1993
TI  - Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology, and Applications
VL  - Materials Science and Process Technology Series
PB  - Noyes Publications
CY  - New Jersey, U.S.A.
SN  - 9780815513315
KW  - surface
KW  - cleaning
ER  -

KERN, Werner. \textit{Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science, Technology, and Applications}. New Jersey, U.S.A.: Noyes Publications, 1993, 623 s. Materials Science and Process Technology Series. ISBN~978-0815513315.