a 2008

Preparation and characterisation of carbon films prepared from HMDSZ/Methane/Nitrogen or Hydrogen mixture using PECVD

KELAR, Lukáš; Vilma BURŠÍKOVÁ a Zdeněk BOCHNÍČEK

Základní údaje

Originální název

Preparation and characterisation of carbon films prepared from HMDSZ/Methane/Nitrogen or Hydrogen mixture using PECVD

Název česky

Preparation and characterisation of carbon films prepared from HMDSZ/Methane/Nitrogen or Hydrogen mixture using PECVD

Autoři

Vydání

2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry, 2008

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ne

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

Klíčová slova anglicky

Preparation; characterisation; carbon films; HMDSZ; Methane; Nitrogen; Hydrogen; mixture; PECVD

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 14. 1. 2009 14:15, Mgr. Adrian Stoica, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Carbon films are often used in various applications. In case of HDLC (amorphous hydrogenated carbon) there may be a problem with internal stress in the film, which can cause cracking or delamination of all the film. It is known that silicon incorporation into the film decreases the internal stress in the film. The aim of the present work was to study the effect of the negative self-bias voltage and the HMDSZ (Si2NC6H19) content in the deposition mixture on the properties of thin films prepared from HMDSZ/methane/nitrogen or hydrogen or argon mixtures.

Česky

Carbon films are often used in various applications. In case of HDLC (amorphous hydrogenated carbon) there may be a problem with internal stress in the film, which can cause cracking or delamination of all the film. It is known that silicon incorporation into the film decreases the internal stress in the film. The aim of the present work was to study the effect of the negative self-bias voltage and the HMDSZ (Si2NC6H19) content in the deposition mixture on the properties of thin films prepared from HMDSZ/methane/nitrogen or hydrogen or argon mixtures.

Návaznosti

GA202/07/1669, projekt VaV
Název: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích