2009
Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films
NEČAS, David; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Daniel FRANTA; Pavel SŤAHEL; Petr MIKULÍK et. al.Základní údaje
Originální název
Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films
Název česky
Optická charakterizace ultratenkých vrstev železa a kysličníků železa
Autoři
NEČAS, David; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Daniel FRANTA; Pavel SŤAHEL; Petr MIKULÍK; Mojmír MEDUŇA a Miroslav VALTR
Vydání
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Tokyo, The Surface Science Society of Japan, 2009, 1348-0391
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Japonsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/09:00028505
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky
železo; kysličník železa; elipsometrie; spektrofotometrie; odrazivost Röntgenových paprsků
Klíčová slova anglicky
iron; iron oxide; thin films; ellipsometry; spectrophotometry; X-ray reflection
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 27. 3. 2013 09:17, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
V originále
Ultra-thin films of 57Fe deposited on silicon substrates and SiOxCyHz support layers and subsequently oxidized in laboratory atmosphere are studied by two optical methods: the combination of UV/VIS/NIR spectroscopic ellipsometry and spectrophotometry, used to find layer thicknesses and optical constants, and X-ray specular reflectometry, used to obtain the electron density depth profile. The results of both methods are compared and found to be in a relatively good agreement.
Česky
Velmi tenké vrstvy 57Fe připravené na křemíkových podložkách a podpůrných vrstvách z SiOxCyHz a následně okysličené v laboratorní atmosféře jsou studovány pomocí dvou optických metod: kombinace UV/vis/NIR spektroskopické elipsometri a spektrofotometrie, použité k nalezení tloušťek a optických konstant, a odrazivosti Röntgenových paprsků, použité k získání profilu elektronové hustoty. Výsledky obou metod jsou srovnány a shledány býti v poměrně dobré shodě.
Návaznosti
| KAN311610701, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622410, záměr |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|