ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Zuzana KUČEROVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA, Vratislav PEŘINA a Anna MACKOVÁ. Composition and functional properties of organosilicon plasma polymers from hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane. In ORGANIC/INORGANIC HYBRID MATERIALS - 2007. WARRENDALE: MATERIALS RESEARCH SOCIETY, 2008, s. 159-164. ISBN 978-1-55899-967-1.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Composition and functional properties of organosilicon plasma polymers from hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane
Název česky Složení a funkční vlastnosti organosilikonových polymerů vytvářených z hexamethyldisiloxanu a octamethylcyclotetrasiloxanu
Autoři ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Zuzana KUČEROVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA, Vratislav PEŘINA a Anna MACKOVÁ.
Vydání WARRENDALE, ORGANIC/INORGANIC HYBRID MATERIALS - 2007, od s. 159-164, 6 s. 2008.
Nakladatel MATERIALS RESEARCH SOCIETY
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-1-55899-967-1
ISSN 0272-9172
UT WoS 000256796400019
Klíčová slova anglicky THIN-FILMS; HYBRID; DEPOSITION; SILICA; MODEL
Štítky deposition, HYBRID, model, silica, THIN-FILMS
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 27. 3. 2013 09:19.
Anotace
Hybrid organic-inorganic thin films with different fractions of silicon oxide were deposited in rf capacitively coupled discharges using pure hexamethyldisiloxane (HMDSO), octamethylcyclotetrasiloxane (D4) or 5 % HMDSO in O-2. The deposition in continuous wave (cw) mode was compared with pulsed conditions under which the discharge on-time was 5 ms and the off-time varied from 0.5 to 15 ms. The chemical composition of the films was studied by FTIR, RBS and ERDA. Their optical properties in UV/visible/NIR were determined from spectroscopic ellipsometry and reflectance measurements fitted with a Kramers-Kronig consistent dispersion model based on a parametrization of density of states. Film hardness and reduced modulus were determined from depth sensing indentation tests.
Anotace česky
Hybrid organic-inorganic thin films with different fractions of silicon oxide were deposited in rf capacitively coupled discharges using pure hexamethyldisiloxane (HMDSO), octamethylcyclotetrasiloxane (D4) or 5 % HMDSO in O-2. The deposition in continuous wave (cw) mode was compared with pulsed conditions under which the discharge on-time was 5 ms and the off-time varied from 0.5 to 15 ms. The chemical composition of the films was studied by FTIR, RBS and ERDA. Their optical properties in UV/visible/NIR were determined from spectroscopic ellipsometry and reflectance measurements fitted with a Kramers-Kronig consistent dispersion model based on a parametrization of density of states. Film hardness and reduced modulus were determined from depth sensing indentation tests.
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
1K05025, projekt VaVNázev: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
VytisknoutZobrazeno: 14. 6. 2024 16:44