J 2009

Vacancies and self-interstitials dynamics in silicon wafers

CAHA, Ondřej, Josef KUBĚNA, Alan KUBĚNA a Mojmír MEDUŇA

Základní údaje

Originální název

Vacancies and self-interstitials dynamics in silicon wafers

Název česky

Dynamika vakancí a intersticiálů v Si deskách

Autoři

CAHA, Ondřej (203 Česká republika, garant), Josef KUBĚNA (203 Česká republika), Alan KUBĚNA (203 Česká republika) a Mojmír MEDUŇA (203 Česká republika)

Vydání

Solid State Phenomena, Switzerland, Trans Tech Publications, 2009, 1012-0394

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Švýcarsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 0.493 v roce 2005

Kód RIV

RIV/00216224:14310/09:00029732

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

křemík; vacance; intersticiály; nukleace

Klíčová slova anglicky

Silicon; vacancies; Interstitials; nucleation

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 4. 1. 2010 17:22, Mgr. Mojmír Meduňa, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

This work deals mainly with the nucleation of vacancies during RTA concerning various cooling rates and initial states.

Česky

Tato práce se zabývá především nukleací vakancí během RTA zahrnujícím různé stupně chlazení a počáteční stavy.

Návaznosti

GA202/09/1013, projekt VaV
Název: Nukleace a růst kyslíkových precipitátů v křemíku
Investor: Grantová agentura ČR, Nukleace a růst kyslíkových precipiátů v křemíku
MSM0021622410, záměr
Název: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur