a 2009

Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process

DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process

Název česky

Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu

Autoři

DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí)

Vydání

Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry, 2009

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/09:00049600

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

higher harmonics; reactive sputtering

Klíčová slova anglicky

vyšší harmoniky; reaktivní naprašování

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 12. 4. 2012 10:46, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process - proceeding

Česky

Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu - sborník

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek