2010
Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering
SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINAZákladní údaje
Originální název
Impact of neutral gas temperatures on reactive magnetron sputtering
Název česky
Vilv teploty neutrálního plynu na reaktivní magnetronové naprašování
Autoři
Vydání
Plzeň, Potential and Applications of Thin Ceramic and Metal Coatings, od s. 75-76, 2 s. 2010
Nakladatel
University of West Bohemia
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/10:00044481
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-7043-894-7
Klíčová slova česky
magnetronové naprašování, modelování, teplota, hystereze
Klíčová slova anglicky
magnetron sputtering; modelling; temperature; hysteresis
Změněno: 2. 9. 2010 09:02, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.
V originále
Temperature is an important parameter which influences whole sputtering process. A model of reactive magnetron sputtering was used to investigate an effect of different temperatures in reactor during reactive sputtering on a hysteresis behaviour of the sputtering. We report shifts of transitions between two modes of a reactive sputtering process.
Česky
Teplota je důležitým parametrem, který ovlivňuje celý rozprašovací proces. Pro vyšetření vlivu různých teplot v reaktoru na hysterezní chování při procesu rozprašování byl použit model reaktivního magnetronového naprašování. Prezentuje posun ve skocích mezi dvěma módy reaktivního rozprašováního procesu.
Návaznosti
| GD104/09/H080, projekt VaV |
| ||
| GP202/08/P038, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|