SCHÄFER, Jan, Stefan HORN, Rüdiger FOEST, Ronny BRANDENBURG, Petr VAŠINA a Klaus-Dieter WELTMANN. Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge. Surface & Coatings Technology, Elsevier Science, 2011, roč. 205, 25.7.2011, s. "S330"-"S334". ISSN 0257-8972. doi:10.1016/j.surfcoat.2011.03.124.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge
Název česky Komplexní analýza SiOxCyHz vrstev deponovaných APDBD
Autoři SCHÄFER, Jan (203 Česká republika), Stefan HORN (276 Německo), Rüdiger FOEST (276 Německo), Ronny BRANDENBURG (276 Německo), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí) a Klaus-Dieter WELTMANN (276 Německo).
Vydání Surface & Coatings Technology, Elsevier Science, 2011, 0257-8972.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Švýcarsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 1.867
Kód RIV RIV/00216224:14310/11:00052854
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.03.124
UT WoS 000293258600071
Klíčová slova anglicky SILVER NANOPARTICLES; PLASMA; JET
Štítky AKR, rivok
Změnil Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 20. 4. 2012 10:38.
Anotace
SiOx films are deposited with an atmospheric pressure dielectric barrier discharge (apDBD) using Ar, O2 and different precursor gases (HMDSO and Silane).An experimental study on the influence of the discharge operation parameters on the chemical composition of the deposited films and the vertical structure over the film thickness is carried out by means of SEM, EDX, and ATR–FTIR.
Anotace česky
SiOx vrstvy byly připraveny s využitím atmosférického DBD výboje z HMDSO a silanu. Byla provedena studie vlivu parametrů výboje na složení, mikrostrukturu a tloušťku vrstvy.
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkumné záměry
VytisknoutZobrazeno: 23. 2. 2020 09:46