Bakalářská práce se bude věnovat vývoji a analýze tenkých vrstev deponovaných v reaktivním kapacitně vázaném plazmatu za sníženého tlaku. Pro depozici tenkých vrstev bude využit organometalický prekurzor (hfac-copperVTMS), který má potenciál k dalšímu zkoumání a vývoji nových typů tenkých vrstev. Hlavním cílem práce je parametrická studie deponovaných vrstev v závislosti na příkonu dodávaného do plazmatu a kombinaci různých poměrů plynů. Tenké vrstvy budou deponovány v kombinaci tohoto prekurzoru a metanu (případně bude tato kombinace doplněna o vodík). Přičemž kombinace par prekurzoru a těchto plynů by měla vést k depozici mědí dopovaných diamantu podobných tenkých vrstev, které by mohli vykazovat antibakteriální vlastnosti při zachování dostatečné odolnosti tenkých vrstvev. Ke studiu vlastností tenkých vrstev bude použita široká škála analytických přístrojů jako jsou například: mikroskop atomárních sil, zařízení na určení povrchové energie, nanoindentor, konfokální mikroskop, profilometr a další. Při vypracování bakalářské práce získá student komplexní znalosti o depozici tenkých vrstev a vlivu parametrů depozice na jejich vlastnosti.