Závěrečná práce: Peter Repiščák: Plazmochemická depozice vrstev vhodných pro aplikaci na lékařské implantáty
Bakalářská práce
Plazmochemická depozice vrstev vhodných pro aplikaci na lékařské implantáty
Plasmachemical deposition of films suitable for application on biomedical implants
Anotace
Témou tejto práce bola plazmochemická depozícia tenkých vrstiev s použitím metódy plazmochemickej depozície (PECVD). Predpokladá sa možné využitie takto pripravených vrstiev na povrchové ošetrenie lekárskych implantátov. Vysokofrekvenčný kapacitne viazaný tlejivý výboj (rf CCP glow discharge) bol použitý k vybudeniu plazmy. Zamerali sme sa hlavne na depozíciu diamond-like carbon DLCH vrstiev, prípadne …více
Abstract
Aim of this thesis was plasmachemical deposition of thin films suitable for application on biomedical implants. Films were deposited utilizing Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) which was initiated by radio frequency capacitively coupled glow discharge (rf CCP glow discharge). A diamond-like carbon (DLCH) films were mainly used in this work. Further, an DLCH with admixtures of other …více
Zadání práce
2. 6. 2009 09:24, prof. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414
- Zadáno/změněno 1. 7. 2009 13:29, Irena Mitášová
- Záznam založen 9. 2. 2009 10:48, Irena Mitášová
- Zveřejnit od 1. 6. 2009 14:10, Irena Mitášová
- Práce převzata 1. 6. 2009 14:10, Irena Mitášová
Vedoucí
Literatura
- D'AGOSTINO, Riccardo; Pietro FAVIA a Francesco FRACASSI. Plasma processing of polymers. Dordrecht: Kluwer Academic Publishers, 1997, x, 532 s. ISBN 0-7923-4859-1.
- ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Vilma BURŠÍKOVÁ; Zuzana KUČEROVÁ; Daniel FRANTA; Pavel DVOŘÁK; Radek ŠMÍD; Vratislav PEŘINA a Anna MACKOVÁ. Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: Institute of Physics Publishing, 2007, roč. 16, č. 1, s. S123-S132, 10 s. ISSN 0963-0252.
- HAYAKAWA, Tohru; Masao YOSHINARIB a Kimiya NEMOTO. Characterization and protein-adsorption behavior of deposited organic thin film onto titanium by plasma polymerization with hexamethyldisiloxane. Biomaterials. 2004, roč. 25, č. 1, s. 119-127. ISSN 0142-9612.
Práce na příbuzné téma
Seznam prací, které mají shodná klíčová slova.
-
Plazmochemická depozice mědí dopovaných tenkých vrstev na bázi uhlíku
Bc. Martin Karkuš -
Plazmochemická depozice organosilikonových tenkých vrstev
Bc. Igor Sabol -
Plazmochemická depozice tenkých vrstev a jejich optické vlastnosti v UV až IR oblasti
Mgr. Pavel Ondračka, Ph.D., učo 324363 -
PECVD Deposition of Thin Films and Study of Material Influence on Plasma Parameters
Mgr. Roman Přibyl, Ph.D. -
Plazmochemická depozice organosilikonových tenkých vrstev
Mgr. Václav Pekař, učo 175319 -
Deposition of hydrocarbon thin films in plasma and study of their properties
Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D., učo 13715 -
Příprava tenkých vrstev oxidů stabilizovaných vysokou entropií pomocí magnetronového naprašování
Bc. Jáchym Seidenglanz -
Plazmochemická depozice nanostrukturovaných diamantupodobných tenkých vrstev
Mgr. Tomáš Novotný




