Bakalářská práce

Plazmochemická depozice organosilikonových tenkých vrstev

Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon thin films

Václav Pekař, učo 175319
Anotace

Tématem této práce bylo nanášení tenkých polymerních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). K vybuzení plazmatu bylo používáno vysokofrekvenčního doutnavého kapacitně vázaného výboje a to jak v kontinuálním, tak i v pulzním režimu. Vrstvy byly vytvářeny z oktametylcyklotetrasiloxanu. Jejich optické vlastnosti byly zjišťovány pomocí elipsometrie a měření odrazivosti. Byla studována …více

Abstract

This work deals with the deposition of thin polymer films by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) in radio frequency capacitive discharge. The discharge was operated in continuous wave as well as pulsed mode. The films were deposited from octamethylcyclotetrasiloxane. Their optical properties were studied by ellipsometry and reflectometry. Structure and optical properties of the films …více

Práce zkontrolována:
11. 10. 2008 13:02, (IS automaticky)
Plný text práce
713,6 KB / soubor PDF
Jazyk práce
čeština čeština
Termín obhajoby
30. 6. 2008
Práce byla úspěšně obhájena

Vedoucí

prof. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414
ÚFKL Fyz PřF MU

Oponent

Autor posudku dosud neidentifikován.

  • Přidání souboru

    Soubor nebo složku lze nahrát pomocí tlačítka Přidat.
  • Další operace se soubory

    Podrobnosti lze zjistit označením příslušného řádku.
  • Pohled pro experty

    Pro častou práci je možné zvolit režim Více možností.
  • Vyhledávání souborů

    Vyhledávaný výraz můžete zadat přímo do adresního řádku.
  • Rychlý přístup k souborům

    Pomocí funkce Nedávné je možné se rychle vrátit k právě prohlíženým souborům. Oblíbené soubory je také možné označit Hvězdičkou.