Diplomová práce

Plazmochemická depozice organosilikonových vrstev ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji

Plasma enhanced chemical vapor deposition of organosilicon films in radio frequency glow discharges

Bc. Václav Pekař, učo 175319
Anotace

Tématem této práce byla depozice tenkých vrstev metodou PECVD ve vysokofrek\-venčním doutnavém výboji. Vrstvy byly připravovány ze směsí obsahujících organosilikonové monomery hexametyldisilazan a hexametyldisiloxan. Vrstvy byly charakterizovány těmito metodami: FTIR, UV a viditelná spektrofotometrie, elipsometrie, RBS a ERDA. Byla vyšetřována především IR spektra vrstev. U vrstev připravených ze směsi …více

Abstract

The subject matter of my diploma paper is deposition of thin films by PECVD in radio frequency glow discharge. Films were prepared out of mixtures containing organosilicon monomers hexamethyldisilasane and hexamethyldisiloxane. The characterisation of the films was accomplished by this methods: FTIR, UV and visible spectrofotometry, ellipsometry, Rutherford backscattering spectroscopy and elastic recoil …více

Klíčová slova
PECVD HMDSO HMDSZ plazmové polymery tenké vrstvy IR spektra
Zadání práce
Metodou plazmochemické depozice z plynné fáze je možné připravit celou řadu funkčních vrstev zajímavých vlastností. Jednou ze zkoumaných skupin materiálů jsou organosilikonové vrstvy, jejichž chemická struktura a vlastnosti mohou být jednoduše měněny změnou depozičních parametrů. Úkolem práce je nanášet a charakterizovat tenké vrstvy ze směsí obsahujících organosilikonový monomer (hexametyldisiloxan nebo hexametydisilazan). Vrstvy budou připraveny ve vysokofrekvenčním doutnavém výboji. Změny v jejich chemické struktuře a optických vlastnostech budou studovány především metodami: infračervená spektroskopie, Rutherfordův zpětný rozptyl (RBS), spektrofotometrie a elipsometrie v UV a viditelné oblasti.
Administrativní informace
Práce zkontrolována:
16. 5. 2010 17:35, prof. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414
Plný text práce
2,9 MB / soubor PDF
Jazyk práce
čeština čeština
Termín obhajoby
11. 6. 2010
Práce byla úspěšně obhájena

Vedoucí

prof. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414
ÚFTP Fyz PřF MU

Oponent

Autor posudku dosud neidentifikován.

Literatura

  • BRABLEC, Antonín; Jiří BUCHTA; Vilma BURŠÍKOVÁ; Ondřej JAŠEK; Vít KUDRLE; Pavel SLAVÍČEK; David TRUNEC a Lenka ZAJÍČKOVÁ. Advanced methods for deposition of thin films: monitoring, properties, application. Tomsk: E.T.Protasevich, 2002, 157 s. Tomsk series.
  • LIEBERMAN, M. A. a Allan J. LICHTENBERG. Principles of plasma discharges and materials processing. New York: John Wiley & Sons, 1994, xxvi, 572. ISBN 0471005770.
  • ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Vilma BURŠÍKOVÁ; Zuzana KUČEROVÁ; Daniel FRANTA; Pavel DVOŘÁK; Radek ŠMÍD; Vratislav PEŘINA a Anna MACKOVÁ. Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: Institute of Physics Publishing, 2007, roč. 16, č. 1, s. S123-S132, 10 s. ISSN 0963-0252.
Citovat tuto práci
Masarykova univerzita Přírodovědecká fakulta
Studijní program
Fyzika
Obor

Práce na příbuzné téma

Seznam prací, které mají shodná klíčová slova.

Podobné práce
 
Název
Vložil
Vloženo
Práva
Archiv závěrečné práce Václav Pekař PřF N-FY PLAZ, učo 175319 brl56/6
Pekař, V.
13. 5. 2010
Složky
Soubory
Anotace anglicky annotation_english.txt
Pekař, V.
14. 5. 2010
Anotace česky annotation.txt
Pekař, V.
14. 5. 2010
diplomka.pdf
Pekař, V.
14. 5. 2010
Klíčová slova keywords.txt
Pekař, V.
14. 5. 2010
posudek_oponent PekarPrikrylOponent.doc
Kučera, M.
25. 5. 2010

  • Přidání souboru

    Soubor nebo složku lze nahrát pomocí tlačítka Přidat.

  • Další operace se soubory

    Podrobnosti lze zjistit označením příslušného řádku.

  • Pohled pro experty

    Pro častou práci je možné zvolit režim Více možností.

  • Vyhledávání souborů

    Vyhledávaný výraz můžete zadat přímo do adresního řádku.

  • Rychlý přístup k souborům

    Pomocí funkce Nedávné je možné se rychle vrátit k právě prohlíženým souborům. Oblíbené soubory je také možné označit Hvězdičkou.