Bakalářská práce se bude věnovat vývoji a analýze tenkých vrstev deponovaných v reaktivním kapacitně vázaném plazmatu za sníženého tlaku. Pro nastolení ideálních podmínek pro depozici tenkých vrstev budou použity organosilikonové prekurzory, které se hojně využívají v průmyslu. Jejich hlavní výhodou je možnost depozice tenkých vrstev s širokým spektrem vhodných mechanických, optických a povrchových vlastností. Tyto vlastnosti jsou ovlivněny chemickým složením tenkých vrstev, které bude studováno v závislosti na depozičních podmínkách (samopředpětí a předpětí, druhy plynů, průtoky a poměr plynů, depoziční tlak a další). Ke studiu vlastností tenkých vrstev bude použita široká škála analytických přístrojů jako jsou například: mikroskop atomárních sil, zařízení na určení povrchové energie, nanoindentor, konfokální mikroskop, profilometr a další. Při vypracování bakalářské práce získá student komplexní znalosti o depozici tenkých vrstev a vlivu parametrů depozice na jejich vlastnosti.