Magnetronové naprašování pulzy vysokého výkonu je moderní ještě ne zcela prozkoumanou metodou přípravy tenkých povlaků. Oproti standardnímu stejnosměrnému magnetronovému naprašování jsou výkonové pulzy koncentrované jen do malé části celkové doby rozprašování. Střída je typicky v jednotkách procent. Tímto lze dosáhnout koncentrace plazmatu o dva řády větší, než je běžné u stejnosměrného magnetronového naprašování. To nám zvýší i ionizaci rozprašovaného materiálu z nízkých jednotek až do vysokých desítek procent dle daného materiálu a parametrů pulzu. Nedávno bylo ukázáno, že seřazením pulzů vysokého výkonu do balíčků, ve kterých je několik pulzů zařazeno blízko za sebe, je možná nejen dále zvětšit ionizaci rozprášených částic, ale zároveň i zvýšit depoziční rychlost povlaků. Tím je ovlivněna i mikrostruktura naprašovaného povlaku. Cílem této práce je zvolit vhodný materiál a vhodné parametry pulzu vysokého výkonu, připravit povlaky s různými pulzními balíčky a systematicky studovat vliv tvaru balíčku na depoziční rychlost, morfologii a mikrostrukturu deponovaného materiálu. Další informace o výzkumné skupině jsou na http://pvdlab.cz/