Optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing
thin films with the wavelengths related to extrema in spectral
reflectances

J 2001

Optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films with the wavelengths related to extrema in spectral reflectances

OHLÍDAL, Ivan, Daniel FRANTA, Miloslav OHLÍDAL a Karel NAVRÁTIL

Základní údaje

Originální název

Optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films with the wavelengths related to extrema in spectral reflectances

Autoři

OHLÍDAL, Ivan (203 Česká republika, garant), Daniel FRANTA (203 Česká republika), Miloslav OHLÍDAL (203 Česká republika) a Karel NAVRÁTIL (203 Česká republika)

Vydání

Applied Optics, USA, Optical Society of America, 2001, 0003-6935

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10306 Optics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Impakt faktor

Impact factor: 1.459

Kód RIV

RIV/00216224:14310/01:00004763

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000171853400019

Klíčová slova anglicky

REFLECTION; CONSTANTS; THICKNESS; SILICON; SYSTEM

Štítky

CONSTANTS, reflection, Silicon, system, THICKNESS

Změněno: 25. 12. 2003 00:46, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.

Anotace

V originále

In this contribution a new efficient modification of a method that enables us to perform the optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films without using the absolute values of the reflectances measured is presented. Namely, this modification is based on determining the values of the wavelengths corresponding to touching the spectral dependences of the reflectances of the studied films measured for several angles of incidence with the envelopes of maxima and minima of these spectral dependences. By means of combining the explicit formulas containing the wavelengths mentioned and the suitable iteration procedure one can evaluate the values of the thicknesses and spectral dependences of the refractive indices of the films analyzed in reliable and precise ways.

Návaznosti

GA202/98/0988, projekt VaV

Název: Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod

Investor: Grantová agentura ČR, Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod

GV106/96/K245, projekt VaV

Název: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy

Investor: Grantová agentura ČR, Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy

VS96084, projekt VaV

Název: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze

Citovat

OHLÍDAL, Ivan, Daniel FRANTA, Miloslav OHLÍDAL a Karel NAVRÁTIL. Optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films with the wavelengths related to extrema in spectral reflectances. Applied Optics. USA: Optical Society of America, 2001, roč. 40, č. 31, s. 5711-5717. ISSN 0003-6935.

@article{378151,
   author = {Ohlídal, Ivan and Franta, Daniel and Ohlídal, Miloslav and Navrátil, Karel},
   article_location = {USA},
   article_number = {31},
   keywords = {REFLECTION; CONSTANTS; THICKNESS; SILICON; SYSTEM},
   language = {eng},
   issn = {0003-6935},
   journal = {Applied Optics},
   title = {Optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films with the wavelengths related to extrema in spectral reflectances},
   url = {http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/AO40_5711.html},
   volume = {40},
   year = {2001}
}

TY  - JOUR
ID  - 378151
AU  - Ohlídal, Ivan - Franta, Daniel - Ohlídal, Miloslav - Navrátil, Karel
PY  - 2001
TI  - Optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films with the wavelengths related to extrema in spectral reflectances
JF  - Applied Optics
VL  - 40
IS  - 31
SP  - 5711
EP  - 5711
PB  - Optical Society of America
SN  - 00036935
KW  - REFLECTION
KW  - CONSTANTS
KW  - THICKNESS
KW  - SILICON
KW  - SYSTEM
UR  - http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/AO40_5711.html
N2  - In this contribution a new efficient modification of a method that enables us to perform the optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films without using the absolute values of the reflectances measured is presented. Namely, this modification is based on determining the values of the wavelengths corresponding to touching the spectral dependences of the reflectances of the studied films measured for several angles of incidence with the envelopes of maxima and minima of these spectral dependences. By means of combining the explicit formulas containing the wavelengths mentioned and the suitable iteration procedure one can evaluate the values of the thicknesses and spectral dependences of the refractive indices of the films analyzed in reliable and precise ways.
ER  -

OHLÍDAL, Ivan, Daniel FRANTA, Miloslav OHLÍDAL a Karel NAVRÁTIL. Optical characterization of nonabsorbing and weakly absorbing thin films with the wavelengths related to extrema in spectral reflectances. \textit{Applied Optics}. USA: Optical Society of America, 2001, roč.~40, č.~31, s.~5711-5717. ISSN~0003-6935.

Podrobný výpis o publikaci