KUČEROVÁ, Zuzana, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers. In WDS 03 Proceedings of contributed papers: Part II. Physics of Plasmas and Ionized media. 1. vyd. Prague: Matfyzpress, 2003, s. 330-334. ISBN 80-86732-18-5.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers
Název česky Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers
Autoři KUČEROVÁ, Zuzana (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika).
Vydání 1. vyd. Prague, WDS 03 Proceedings of contributed papers: Part II. Physics of Plasmas and Ionized media, od s. 330-334, 5 s. 2003.
Nakladatel Matfyzpress
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 80-86732-18-5
Klíčová slova anglicky PECVD; FTIR; HMDSO; SiOx
Štítky FTIR, HMDSO, PECVD, SiOx
Příznaky Recenzováno
Změnil Změnila: doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D., učo 2418. Změněno: 8. 2. 2008 20:24.
Anotace
We deposited organisilicon plasma polymer films from hexamethyldisiloxane (HMDSO) and HMDSO/O2 mixtures by plasma enhanced CVD method. Optical constants in ultraviolet-visible range were obtained by spectroscopic ellipsometry. Fourier transform infrared measurements were performed to characterize chemical bonds in the films.
Anotace česky
We deposited organisilicon plasma polymer films from hexamethyldisiloxane (HMDSO) and HMDSO/O2 mixtures by plasma enhanced CVD method. Optical constants in ultraviolet-visible range were obtained by spectroscopic ellipsometry. Fourier transform infrared measurements were performed to characterize chemical bonds in the films.
VytisknoutZobrazeno: 11. 5. 2024 05:45