-
ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Zuzana KUČEROVÁ; Daniel FRANTA; Vilma BURŠÍKOVÁ; Jiří BURŠÍK; Pavel SŤAHEL a Petr KLAPETEK. Plasma enhanced CVD of thin films using hexamethyldisiloxane and octamethyltetrasiloxane monomers. In 18th International Symposium on Plasma Chemistry. Kyoto: International Plasma Chemistry Society, 2007, s. 459.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/747827/cs
-
GRANIER, A.; T. BEGOU; C. DUQUENNE; M.A. DJOUADI; X. FENG; Vilma BURŠÍKOVÁ a Lenka ZAJÍČKOVÁ. Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma. In 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Abstracts and Full-Papers CD. Kyoto, Japan: Kyoto University, 2007, s. 1-4. ISBN 978-9903773-2-8.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/755339/cs
-
ŠMÍD, Radek; Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas. In Proceedings of the XXVII ICPIG. 1. vyd. Eindhoven, Nizozemí: Eindhoven University of Technology, Nizozemí, 2005, s. 297-300. ISBN 90-386-2231-7.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/592225/cs
-
FRANCLOVÁ, Jana; Zuzana KUČEROVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vratislav PEŘINA. Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing. Czech. J. Phys. Praha: Institute of Physics Academy of Sciences, 2004, roč. 2004, č. 54, s. C847-C852, 6 s. ISSN 0011-4626.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/555878/cs
-
VALTR, Miroslav; Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO. In JUNIORMAT 03. 1. vyd. Brno: ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie, 2003, s. 58-59. ISBN 80-214-2462-1.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/490899/cs
-
FRANCLOVÁ, Jana a Vilma BURŠÍKOVÁ. Electrical conductivity of Si incorporated diamond-like carbon films deposited by PECVD. In Juniormat 2003. 1. vyd. Brno: Brno University of Technology, Faculty of Mechanical Engeneering, 2003, s. 266 - 267. ISBN 80-214-2462-1.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/491545/cs
-
KUČEROVÁ, Zuzana; Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers. In WDS 03 Proceedings of contributed papers: Part II. Physics of Plasmas and Ionized media. 1. vyd. Prague: Matfyzpress, 2003, s. 330-334. ISBN 80-86732-18-5.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/491503/cs
-
KUDRLE, Vít; Vojtěch DOLEŽAL; Antonín TÁLSKÝ a Jan JANČA. Study of reaction between HMDSO and O atoms in afterglow. In Proceedings of ISPC 14. Taormina: Universita di Bari, 2003, s. 463-466.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/491870/cs