Masarykova univerzita

Výpis publikací

česky | in English

Filtrování publikací

    2007

    1. Plasma enhanced CVD of thin films using hexamethyldisiloxane and octamethyltetrasiloxane monomers
      ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Zuzana KUČEROVÁ, Daniel FRANTA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Jiří BURŠÍK, Pavel SŤAHEL a Petr KLAPETEK. Plasma enhanced CVD of thin films using hexamethyldisiloxane and octamethyltetrasiloxane monomers. In 18th International Symposium on Plasma Chemistry. Kyoto: International Plasma Chemistry Society, 2007, s. 459.
      Název česky: Plazmochemická depozice vrstev z hexametyldisiloxanu a oktametyltetrasiloxanu
      Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Japonsko.
      Klíčová slova anglicky: PECVD; HMDSO; OMCTS
      Druh sborníku: předkonferenční sborník
      Mezinárodní význam: ano
      Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 9. 1. 2008 11:40.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/747827/cs
    2. Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma
      GRANIER, A., T. BEGOU, C. DUQUENNE, M.A. DJOUADI, X. FENG, Vilma BURŠÍKOVÁ a Lenka ZAJÍČKOVÁ. Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma. In 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Abstracts and Full-Papers CD. Kyoto, Japan: Kyoto University, 2007, s. 1-4. ISBN 978-9903773-2-8.
      Název česky: Struktura a vlastnosti DLC/SiOx vrstev připravených v CW a pulzním plazmatu
      Název anglicky: Structure and properties of DLC/SiOx films deposited in CW and pulsed plasma
      Fyzika pevných látek a magnetismus. angličtina. Japonsko.
      Klíčová slova anglicky: DLC;PECVD;HMDSO;mechanical properties
      Druh sborníku: předkonferenční sborník
      Mezinárodní význam: ano
      Změnil: Mgr. Petr Bureš, učo 40751. Změněno: 16. 7. 2008 14:06.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/755339/cs

    2005

    1. Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas
      ŠMÍD, Radek, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas. In Proceedings of the XXVII ICPIG. 1. vyd. Eindhoven, Nizozemí: Eindhoven University of Technology, Nizozemí, 2005, s. 297-300. ISBN 90-386-2231-7.
      URL
      Název česky: Aktinometrie pro porozumění plazmochemické depozice tenkých vrstev z O2/HMDSO plazmatu
      RIV/00216224:14310/05:00014212 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Nizozemské království.
      Šmíd, Radek (203 Česká republika, garant) -- Zajíčková, Lenka (203 Česká republika) -- Buršíková, Vilma (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: actinometry; HMDSO; optical emission spectroscopy
      Mezinárodní význam: ano
      Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 9. 1. 2008 11:11.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/592225/cs

    2004

    1. Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing
      FRANCLOVÁ, Jana, Zuzana KUČEROVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vratislav PEŘINA. Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing. Czech. J. Phys. Praha: Institute of Physics Academy of Sciences, 2004, roč. 2004, č. 54, s. C847-C852, 6 s. ISSN 0011-4626.
      Název česky: Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním
      RIV/00216224:14310/04:00021214 Článek v odborném periodiku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Franclová, Jana (203 Česká republika) -- Kučerová, Zuzana (203 Česká republika) -- Buršíková, Vilma (203 Česká republika, garant) -- Zajíčková, Lenka (203 Česká republika) -- Peřina, Vratislav (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: Deposited films; plasma enhanced CVD; HMDSO; FTIR; RBS
      Mezinárodní význam: ano
      Recenzováno: ano
      Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 17. 7. 2007 18:00.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/555878/cs

    2003

    1. Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO
      VALTR, Miroslav, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO. In JUNIORMAT 03. 1. vyd. Brno: ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie, 2003, s. 58-59. ISBN 80-214-2462-1.
      RIV/00216224:14330/03:00008608 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Valtr, Miroslav (203 Česká republika, garant) -- Zajíčková, Lenka (203 Česká republika) -- Buršíková, Vilma (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: plasma;DLC;films;methane;HMDSO;pecvd;radio frequency;discharge;FTIR;normalized absorbance
      Změnil: RNDr. JUDr. Vladimír Šmíd, CSc., učo 1084. Změněno: 29. 5. 2004 18:14.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/490899/cs
    2. Electrical conductivity of Si incorporated diamond-like carbon films deposited by PECVD
      FRANCLOVÁ, Jana a Vilma BURŠÍKOVÁ. Electrical conductivity of Si incorporated diamond-like carbon films deposited by PECVD. In Juniormat 2003. 1. vyd. Brno: Brno University of Technology, Faculty of Mechanical Engeneering, 2003, s. 266 - 267. ISBN 80-214-2462-1.
      Název česky: Elektrická vodivost diamantupodobných vrstev připravených PECVD
      Název anglicky: Electrical conductivity of Si incorporated diamond-like carbon films deposited by PECVD
      RIV/00216224:14310/03:00021185 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Franclová, Jana (203 Česká republika) -- Buršíková, Vilma (203 Česká republika, garant)
      Klíčová slova anglicky: PECVD; HMDSO; Electrical conductivity
      Změnila: Mgr. Jana Meixnerová, Ph.D., učo 13309. Změněno: 23. 9. 2005 19:46.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/491545/cs
    3. Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers
      KUČEROVÁ, Zuzana, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers. In WDS 03 Proceedings of contributed papers: Part II. Physics of Plasmas and Ionized media. 1. vyd. Prague: Matfyzpress, 2003, s. 330-334. ISBN 80-86732-18-5.
      Název česky: Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers
      Název anglicky: Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers
      RIV: Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Kučerová, Zuzana (203 Česká republika) -- Zajíčková, Lenka (203 Česká republika, garant) -- Buršíková, Vilma (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: PECVD; FTIR; HMDSO; SiOx
      Recenzováno: ano
      Změnila: doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D., učo 2418. Změněno: 8. 2. 2008 20:24.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/491503/cs
    4. Study of reaction between HMDSO and O atoms in afterglow
      KUDRLE, Vít, Vojtěch DOLEŽAL, Antonín TÁLSKÝ a Jan JANČA. Study of reaction between HMDSO and O atoms in afterglow. In Proceedings of ISPC 14. Taormina: Universita di Bari, 2003, s. 463-466.
      Název česky: Studium reakce mezi parami HMDSO a kyslíkových atomů v dohasínajícím plazmatu
      RIV/00216224:14310/03:00008460 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Itálie.
      Kudrle, Vít (203 Česká republika, garant) -- Doležal, Vojtěch (203 Česká republika) -- Tálský, Antonín (203 Česká republika) -- Janča, Jan (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: plasmachemical reaction; HMDSO; EPR
      Mezinárodní význam: ano
      Změnil: prof. Mgr. Vít Kudrle, Ph.D., učo 2560. Změněno: 6. 6. 2008 13:26.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/491870/cs
Zobrazeno: 22. 9. 2024 14:29