2005
Evidence of refractive index change in glass substrates induced by high-density reactive ion plating deposition of SiO2 films
JAN, Mistrík; Ivan OHLÍDAL; Roman ANTOŠ; Mitsuru AOYAMA; Tomuo YAMAGUCHI et. al.Základní údaje
Originální název
Evidence of refractive index change in glass substrates induced by high-density reactive ion plating deposition of SiO2 films
Název česky
Důkaz změny indexu lomu ve skleněných podložkách indukovanou deposicí SiO2
vrstev reaktivním plátováním s vysokou hustotou
Autoři
JAN, Mistrík; Ivan OHLÍDAL; Roman ANTOŠ; Mitsuru AOYAMA a Tomuo YAMAGUCHI
Vydání
Applied Surface Science, USA, ELSEVIER (NORTH-HOLLAND), 2005, 0169-4332
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 1.263
Kód RIV
RIV/00216224:14310/05:00015081
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000228600200013
Klíčová slova anglicky
ellipsometry; reflectometry; ion plating; SiO2/glass interface; change of refractive index; plasma-assisted deposition; Schott B270
Štítky
Změněno: 28. 2. 2006 19:41, prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
V originále
High-density reactive ion plating was used for SiO2 coating of Schott B270 glass. Optical properties of the sample were intensively studied by spectroscopic ellipsometry, reflectance and transmittance. Several optical models accounting for different structural defects, i.e., (1) gradient profile of refractive index in SiO2 layer, (2) transition layer between SiO2 and glass, and (3) induced slow variation of glass refractive index close to SiO2/glass interface were considered. The last one with increased value of substrate refractive index gave the best correspondence with the experimental data. (c) 2004 Elsevier B.V. All rights reserved.
Česky
Reaktivní plátování s vysokou hustotou bylo použito pro pokrývání skla Schott B270 vrstvami SiO2. Optické vlastnosti vzorku byly rozsáhle studovány spektroskopickou elipsometrií, odrazivostí a propustností. Několik optických modelů bylo použito pro započtení strukturních defektů, tj. (1) gradientní profil indexu lomu v SiO2 vrstvě, (2) přechodová mezivrstva mezi SiO2 a sklem a (3) slabé změny v indexu lomu skla blízko rozhraní SiO2/sklo byly uvažovány. Poslední z nich obsahující zvýšení indexu lomu podložky vykazoval nejlepší korespondenci s experimentálními daty.
Návaznosti
| MSM0021622411, záměr |
|