2009
Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen
SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINAZákladní údaje
Originální název
Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen
Název česky
Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku
Autoři
SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant)
Vydání
Brno, Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8, od s. 75-75, 1 s. 2009
Nakladatel
Brno University of Technology
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/09:00029368
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-214-3875-0
Klíčová slova česky
modelovaní; magnetron
Klíčová slova anglicky
modelling; magnetron
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 24. 6. 2009 13:15, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
V originále
Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen, procceding
Česky
Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku, sborník
Návaznosti
| GP202/08/P038, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|