a 2009

Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously

VAŠINA, Petr a Tereza SCHMIDTOVÁ

Základní údaje

Originální název

Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously

Název česky

Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny

Autoři

Vydání

Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry, 2009

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/09:00049601

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

reaktivní naprašování

Klíčová slova anglicky

reactive magnetron sputering; target; modeling

Štítky

Změněno: 5. 4. 2012 14:18, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously, proceeding

Česky

Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny, sborník

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek