Bakalářská práce

Využití atomic layer deposition pro přípravu TiSiO2 vrstev

Atomic layer deposition for preparation of TiSiO2 thin films

Július Vida
Anotace

V této bakalářské práci byly metodou depozice po atomárních vrstvách (atomic layer deposition) připraveny tenké vrstvy oxidu TiSiO2, s různým poměrem titanu a křemíku. Tloušťka a optické vlastnosti vrstev byly určeny pomocí elipsometrie ve viditelné a blízké ultrafialové oblasti spektra. Budoucím záměrem výzkumu nových materiálů tohoto typu je zjištování jejich dielektrických vlastností z hlediska …více

Abstract

In this thesis, thin films of TiSiO2 oxides with different titanium-to-silicon ratio were deposited using atomic layer deposition. The thickness and optical properties of the films were determined by ellipsometry in the visible and near ultraviolet spectral range. Future research of novel TiSiO2 materials aims to investigate their dielectric properties because of their possible application as high …více

Klíčová slova
PE-ALD nanolaminates high-k MOS capacitor ellipsometry photolithography photomask
Zadání práce
Optické vlastnosti TiO2 motivují výzkum jeho využití jako komponenty s vysokých indexem lomu pro multivrstevnaté antireflexní povlaky, interferenční filtry a planární vlnovody. Díky jeho vysoké statické dielektrické konstantě a kompatibilitě s polovodičovými technologiemi je TiO2 také perspektivní ``high-k'' dielektrikum pro vývoj planárních integrovaných součástek s vysokou kapacitou. Jeho růst ve sloupcové struktuře ovšem zvyšuje optické ztráty a degraduje elektrické izolační vlastnosti. Poměrně úzký zakázaný pás (cca 3.2 eV) představuje omezení snahy dosáhnout nízkého ztrátového proudu a limituje využití v optické oblasti pod 400 nm. Předpokládá se, že aplikačně zajímavé vlastnosti TiO2 mohou být vylepšeny, obohaceny nebo jemně vyladěny připravením směsného oxidu TiSiO2. Cílem práce je připravit TiSiO2 vrstvy metodou atomic layer deposition a otestovat vliv plazmatu na tento typ depozice. Vrstvy budou zkoumány z hlediska optických vlastností a připraveny na nich kontakty pro budoucí elektrické měření.
Administrativní informace
Práce zkontrolována:
19. 5. 2017 06:06, prof. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414
Plný text práce
7,3 MB / soubor PDF
Jazyk práce
angličtina angličtina
Termín obhajoby
21. 6. 2017
Práce byla úspěšně obhájena

Vedoucí

prof. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414
ÚFTP Fyz PřF MU

Oponent

Autor posudku dosud neidentifikován.
Citovat tuto práci
Masarykova univerzita Přírodovědecká fakulta
Studijní program
Aplikovaná fyzika
Obor

Práce na příbuzné téma

Seznam prací, které mají shodná klíčová slova.

Podobné práce

  • Přidání souboru

    Soubor nebo složku lze nahrát pomocí tlačítka Přidat.

  • Další operace se soubory

    Podrobnosti lze zjistit označením příslušného řádku.

  • Pohled pro experty

    Pro častou práci je možné zvolit režim Více možností.

  • Vyhledávání souborů

    Vyhledávaný výraz můžete zadat přímo do adresního řádku.

  • Rychlý přístup k souborům

    Pomocí funkce Nedávné je možné se rychle vrátit k právě prohlíženým souborům. Oblíbené soubory je také možné označit Hvězdičkou.