PAVELKA, Radek, Ivan OHLÍDAL, Jan HLÁVKA, Daniel FRANTA a Helmut SITTER. Optical characterization of thin films with randomly rough boundaries using the photovoltage method. Thin Solid Films. UK Oxford: Elsevier science, 2000, roč. 366, č. 1, s. 43-50. ISSN 0040-6090.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Optical characterization of thin films with randomly rough boundaries using the photovoltage method
Autoři PAVELKA, Radek (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika, garant), Jan HLÁVKA (203 Česká republika), Daniel FRANTA (203 Česká republika) a Helmut SITTER.
Vydání Thin Solid Films, UK Oxford, Elsevier science, 2000, 0040-6090.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 1.160
Kód RIV RIV/00216224:14310/00:00002318
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000087078800009
Klíčová slova anglicky Photovoltage; Optical properties; Ellipsometry; Reflection spectroscopy
Štítky ellipsometry, Optical properties, Photovoltage, Reflection spectroscopy
Změnil Změnil: Mgr. Daniel Franta, Ph.D., učo 2000. Změněno: 22. 12. 2003 01:01.
Anotace
In this paper the determination of the values of the optical parameters of thin films exhibiting randomly rough boundaries using a photovoltage method is presented. This photovoltage method is based on measuring the radiant flux passing through the film studied. Theoretical formulae needed for applying the method are derived. The practical utilization of the method is illustrated by means of characterizing a rough SiO2-film on a silicon single crystal. A correctness of the results achieved for this film is confirmed by values of the optical parameters of the SiO2-film determined by a combined method of spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry. It will also be shown that the photovoltage method enables us to determine the values of the optical parameters of the rough thin films with the randomly rough boundaries in a simpler way than the standard optical methods.
Návaznosti
GA202/98/0988, projekt VaVNázev: Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod
Investor: Grantová agentura ČR, Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod
VS96084, projekt VaVNázev: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
VytisknoutZobrazeno: 19. 9. 2024 06:00