J 2005

Spectroscopic ellipsometry on lamellar gratings

ANTOŠ, Roman; Ivan OHLÍDAL; Jan MISTRÍK; K. MURAKAMI; Tomuo YAMAGUCHI et al.

Základní údaje

Originální název

Spectroscopic ellipsometry on lamellar gratings

Název česky

Spektroskopická elipsometrie na lamelárních mřížkách

Autoři

ANTOŠ, Roman; Ivan OHLÍDAL; Jan MISTRÍK; K. MURAKAMI; Tomuo YAMAGUCHI; J. PIŠTORA; M. HORIE a Štefan VIŠŇOVSKÝ

Vydání

Applied Surface Science, USA, ELSEVIER (NORTH-HOLLAND), 2005, 0169-4332

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10306 Optics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.263

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00013300

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

optical metrology; scatterometry; spectroscopic ellipsometry; diffraction grating; wood anomaly; RCWA
Změněno: 28. 2. 2006 19:25, prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.

Anotace

V originále

Deep lamellar diffraction gratings fabricated by etching a transparent quartz plate are studied using spectroscopic ellipsometry. The rigorous coupled-wave analysis is used to calculate the optical response of the gratings. Three parameters of the rectangular profile are determined by utilizing the least-square method. Detailed investigation of the spectral dependences demonstrates the uniqueness of the solution. Observing the spectral dependences of Wood anomalies suggests that even complicated profiles can be fitted with high authenticity.

Česky

Hluboké lamelární mřížky vyrobené leptáním transparentních destiček z taveného křemene jsou studovány s využitím spektroskopické elipsometrie. Rigorózní analýza pomocí vázaných vln je užita k počítání optické odezvy mřížek. Tři parametry pravoúhlého profilu jsou určeny pomocí metody nejmenších čtverců. Podrobné zkoumání spektrálních závislostí demonstruje jednoznačnost řešení. Pozorováním spektrálních závislostí Woodových anomalií naznačuje, že i komplikované profily mohou být fitovány s vysokou spolehlivostí.

Návaznosti

GA202/03/0776, projekt VaV
Název: Magnetooptické jevy v magnetických nanostrukturách
ME 574, projekt VaV
Název: Výzkum nových materiálů pro informatiku: zvyšování hustoty magnetického záznamu