DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINA. Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process. In Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology. Praha: CVUT v Praze, 2008. s. 91-92, 1 s. ISBN 978-80-01-04030-0.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
Název česky Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant) a Petr VAŠINA (203 Česká republika).
Vydání Praha, Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology, od s. 91-92, 1 s. 2008.
Nakladatel CVUT v Praze
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/08:00024835
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-01-04030-0
Klíčová slova anglicky higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
Štítky discharge, higher harmonics, magnetron, plasma, reactive sputtering
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 7. 8. 2008 09:53.
Anotace
A new method to control whether a radio-freguency (RF) reactive sputtering deposition processes runs in a pre-adjusted experimental conditions was proposed. The frequency spectrum of the cathode voltage and of the voltage on an uncompensated probe immersed in the plasma was measured and it was proved, that some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the metallic and the compound mode of the RF sputtering.
Anotace česky
Byla navržena nová metoda kontroly vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování založená na měření frekvenčního spektra katodového napětí nebo napětí měřeného na nekompenzované sondě vsunuté do plazmatu. Amplitudy některých harmonických frekvencí byly velice citlivé na sledovaný přeskok mezi kovovým a otráveným režimem magnetronového naprašování.
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Postdoktorské projekty
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkumné záměry
VytisknoutZobrazeno: 25. 5. 2020 15:04