SKÁCELOVÁ, Dana,
Petr SLÁDEK,
Pavel SŤAHEL,
Lukáš PAWERA, Martin HANIČINEC, Jürgen MEISCHNER a
Mirko ČERNÁK. Properties of atmospheric pressure plasma oxidized layers on silicon wafers.
Open Chemistry. Varšava, Polsko: De Gruyter, 2015, roč. 13, č. 1, s. 376-381. ISSN 2391-5420. doi:10.1515/chem-2015-0047.