Masarykova univerzita

Výpis publikací

česky | in English

Filtrování publikací

    2009

    1. Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process
      VAŠINA, Petr a Pavel DVOŘÁK. Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control the RF sputtering deposition process. Europhysics Letters. European Physical Society, 2009, roč. 85, č. 1, s. 15002-15006. ISSN 0295-5075.
      Název česky: Analýza harmonických složek napětí v plazmatu jako nástroj kontrolu vf. naprašování
      RIV/00216224:14310/09:00029226 Článek v odborném periodiku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Francie.
      Vašina, Petr (203 Česká republika, garant) -- Dvořák, Pavel (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
      Mezinárodní význam: ano
      Recenzováno: ano
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 24. 6. 2009 14:05.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/824202/cs
    2. Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage?
      VAŠINA, Petr a Pavel DVOŘÁK. Is it possible to control degree of target poisoning during RF reactive magnetron sputtering by higher harmonic frequencies of discharge voltage? In Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8 - Book of abstracts. Brno: VUT Brno, 2009, s. 74. ISBN 978-80-214-3875-0.
      Název česky: Lze kontrolovat otravu terče při magnetronovém naprašování pomocí vyšších harmonických frekvencí výbojového napětí?
      RIV/00216224:14310/09:00029369 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Vašina, Petr (203 Česká republika, garant) -- Dvořák, Pavel (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
      Druh sborníku: předkonferenční sborník
      Mezinárodní význam: ano
      Změnil: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Změněno: 24. 6. 2009 13:46.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/838257/cs
    3. Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen
      SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINA. Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen. In Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8. Brno: Brno University of Technology, 2009, s. 75-75. ISBN 978-80-214-3875-0.
      Název česky: Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku
      Název anglicky: Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen
      RIV/00216224:14310/09:00029368 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Schmidtová, Tereza (203 Česká republika) -- Vašina, Petr (203 Česká republika, garant)
      Klíčová slova anglicky: modelling; magnetron
      Druh sborníku: předkonferenční sborník
      Mezinárodní význam: ano
      Recenzováno: ano
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 24. 6. 2009 13:15.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/838252/cs

    2008

    1. Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
      DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINA. Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process. In 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts. 32 A. Granada: European Physical Society, 2008, s. 78P (topic 5), 2 s. ISBN 2-914771-04-5.
      URL
      Název česky: Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje
      RIV/00216224:14310/08:00024832 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Španělsko.
      Dvořák, Pavel (203 Česká republika, garant) -- Vašina, Petr (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: magnetron; reactive sputtering; plasma; discharge; higher harmonics;
      Druh sborníku: předkonferenční sborník
      Mezinárodní význam: ano
      Recenzováno: ano
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 7. 8. 2008 09:52.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/773053/cs
    2. Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
      DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINA. Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process. In Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology. Praha: CVUT v Praze, 2008, s. 91-92, 1 s. ISBN 978-80-01-04030-0.
      Název česky: Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování
      RIV/00216224:14310/08:00024835 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Dvořák, Pavel (203 Česká republika, garant) -- Vašina, Petr (203 Česká republika)
      Klíčová slova anglicky: higher harmonics; plasma; discharge; reactive sputtering; magnetron
      Druh sborníku: předkonferenční sborník
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 7. 8. 2008 09:53.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/773067/cs
    3. Study of a fast high power pulsed magnetron discharge: role of plasma deconfinement on the charged particle transport
      VAŠINA, Petr, Marcel MEŠKO, Ludovic DE POUCQUES, Jean BRETAGNE, Caroline BOISSE-LAPORTE a Michel TOUZEAU. Study of a fast high power pulsed magnetron discharge: role of plasma deconfinement on the charged particle transport. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: Institute of Physics Publishing, 2008, roč. 17, č. 3, s. Article number 03507, 9 s. ISSN 0963-0252.
      Název česky: Studium rychlého pulzního magnetronového výboje - transport rozprášených ionizoných částiv v plazmatu s magnetickým polem
      Název anglicky: Study of a fast high power pulsed magnetron discharge: role of plasma deconfinement on the charged particle transport
      RIV/00216224:14310/08:00034388 Článek v odborném periodiku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Velká Británie a Severní Irsko.
      Vašina, Petr (203 Česká republika, garant) -- Meško, Marcel (703 Slovensko) -- de Poucques, Ludovic (250 Francie) -- Bretagne, Jean (250 Francie) -- Boisse-Laporte, Caroline (250 Francie) -- Touzeau, Michel (250 Francie)
      Klíčová slova anglicky: high power pulses; magnetron
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 27. 3. 2010 09:32.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/800643/cs

    2007

    1. Experimental study of a pre-ionized high power pulsed magnetron discharge
      VAŠINA, Petr, Marcel MEŠKO, Jean-Christophe IMBERT, Mihai GANCIU, Caroline BOISSE-LAPORTE, Ludovic DE POUCQUES, Michel TOUZEAU, Daniel PAGNON a Jean BRETAGNE. Experimental study of a pre-ionized high power pulsed magnetron discharge. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: Institute of Physics Publishing, 2007, roč. 2007, č. 16, s. 501-510. ISSN 0963-0252.
      Název česky: Experimenetální studie preionizovaného pulzního magnetronu velkého výkonu
      Název anglicky: Experimental study of a pre-ionized high power pulsed magnetron discharge
      RIV/00216224:14310/07:00032077 Článek v odborném periodiku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Velká Británie a Severní Irsko.
      Vašina, Petr (203 Česká republika, garant) -- Meško, Marcel (703 Slovensko) -- Imbert, Jean-Christophe (250 Francie) -- Ganciu, Mihai (642 Rumunsko) -- Boisse-Laporte, Caroline (250 Francie) -- de Poucques, Ludovic (250 Francie) -- Touzeau, Michel (250 Francie) -- Pagnon, Daniel (250 Francie) -- Bretagne, Jean (250 Francie)
      Klíčová slova anglicky: magnetron; sputtering; high power pulses
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 27. 3. 2010 10:46.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/719139/cs

    2005

    1. Spatial characterization of an IPVD reactor: neutral gas temperature and interpretation of optical spectroscopy measurements
      DE POUCQUES, Ludovic, Jean-Christophe IMBERT, Caroline BOISSE-LAPORTE, Petr VAŠINA, Jean BRETAGNE, Lionel TEULÉ-GAY a Michel TOUZEAU. Spatial characterization of an IPVD reactor: neutral gas temperature and interpretation of optical spectroscopy measurements. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: Institute of Physics Publishing, 2005, roč. 14, č. 2, s. 321-327. ISSN 0963-0252.
      Název česky: Prostorove rozlisena charakterizace IPVD reaktoru: teplota jako klicovy parametr pro interpretaci opticke emisni spektroskopie
      Název anglicky: Spatial characterization of an IPVD reactor: neutral gas temperature and interpretation of optical spectroscopy measurements
      RIV/00216224:14310/05:00012907 Článek v odborném periodiku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Velká Británie a Severní Irsko.
      de Poucques, Ludovic (250 Francie) -- Imbert, Jean-Christophe (250 Francie) -- Boisse-Laporte, Caroline (250 Francie) -- Vašina, Petr (203 Česká republika, garant) -- Bretagne, Jean (250 Francie) -- Teulé-Gay, Lionel (250 Francie) -- Touzeau, Michel (250 Francie)
      Klíčová slova anglicky: physical vapor deposition; ionised physical vapor deposition; titanium; metal ionisation; density; magnetron
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 23. 2. 2006 16:05.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/596585/cs

    2004

    1. Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma
      DE POUSQUES, Ludovic, Jean-Christiphe IMBERT, Petr VAŠINA, Caroline BOISSE-LAPORTE, Lionel TEULE-GAY a Michel TOUZEAU. Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma. In Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering. Garmisch-Partenkirchen, Germany: Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering, 2004, s. 23.
      Název česky: Srovnani ionizacni ucinnosti dvou IPVD procesu: magnetronoveho vyboje s dodatecnym mikrovlnnym nebo RF vybojem
      Název anglicky: Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma
      RIV/00216224:14310/04:00024540 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Německo.
      de Pousques, Ludovic (250 Francie) -- Imbert, Jean-Christiphe (250 Francie) -- Vašina, Petr (203 Česká republika, garant) -- Boisse-Laporte, Caroline (250 Francie) -- Teule-Gay, Lionel (250 Francie) -- Touzeau, Michel (250 Francie)
      Klíčová slova anglicky: IPVD; microwave; RF; magnetron
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 24. 6. 2009 14:00.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/572554/cs

    2003

    1. Spatial Distribution of Species in an IPVD reactor
      BUBLAN, Martin, Petr VAŠINA, Ludovic DE POUCQUES, Caroline BOISSE-LAPORTE, Jean-Christophe IMBERT a Michel TOUZEAU. Spatial Distribution of Species in an IPVD reactor. In WDS 03 Proceeding of Contributed Papers. Praha: MARFYZPRESS, vydavatelství Matematicko-fyzikální fakulty University Karlovy v Praze, 2003, s. 326-329. ISBN 80-86732-18-5.
      Název česky: Prostorově rozložení částic v IPVD reactorem
      Název anglicky: Spatial Distribution of Species in an IPVD reactor
      RIV/00216224:14310/03:00025490 Stať ve sborníku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Bublan, Martin (203 Česká republika) -- Vašina, Petr (203 Česká republika, garant) -- de Poucques, Ludovic (250 Francie) -- Boisse-Laporte, Caroline (250 Francie) -- Imbert, Jean-Christophe (250 Francie) -- Touzeau, Michel (250 Francie)
      Klíčová slova anglicky: optical emission spectroscopy; optical absorption spectroscopy; IPVD; magnetron
      Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 23. 6. 2009 10:02.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/558607/cs

    1999

    1. A study of the electron energy distribution function in the cylindrical magnetron discharge in argon and xenon
      BEHNKE, J.F., E. PASOTH, C. CSAMBAL, Milan TICHÝ, Pavel KUDRNA, David TRUNEC a Antonín BRABLEC. A study of the electron energy distribution function in the cylindrical magnetron discharge in argon and xenon. Czech. Journal of Phys. Praha: FU AV ČR, 1999, roč. 49, č. 4, s. 483-498. ISSN 011-4626.
      Název anglicky: A study of the electron energy distribution function in the cylindrical magnetron discharge in argon and xenon
      RIV/00216224:14310/99:00001558 Článek v odborném periodiku. Fyzika plasmatu a výboje v plynech. angličtina. Česká republika.
      Klíčová slova anglicky: electron distribution function; magnetron; discharges
      Změnil: doc. RNDr. Antonín Brablec, CSc., učo 79. Změněno: 13. 1. 2000 09:51.
      Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/225991/cs
Zobrazeno: 12. 5. 2024 10:54